研究興趣

學術專長領域：

1. 奈微米結構製程與光機電技術（奈米轉印、光學抗反射分析、光學特性、鑽石奈米針尖場發射特性、準分子雷射、飛秒雷射加工與分析）

2. 先進材料與精密製造技術（積層製造技術—3D列印技術、微結構壓電薄膜沈積、化學機械平坦化、硬脆材料製程、晶圓薄化）

3. 智慧製造

4. 碳系材料薄膜沈積與應用技術（鑽石薄膜、石墨烯、奈米碳管）

5. 影像處理與瑕疵檢測（自動光學檢測、半導體製程影像監控、移動載具監測外界移動物體、微小昆蟲特徵與行為監測）

6. 新興能源技術開發 (微生物燃料電池電極設計與製作、生質能藻體細胞破壁力學分析）

7. 金屬積層製造

 

研究工作及進修： 

秉持「研究的目的在於挖掘未知的真相，而工程研究的目的在於將真相變成生活的可能。」過去所從事的研究除了探討未知的前瞻研究外，同時亦重視工程上的研究應用。積極從事學術研究，並重視產業應用的專利與授權，將學術研究與產業結合。